Авторское право практическая задача
Практическая задача № 1
Заявитель предполагает подать заявку на полезную модель, охарактеризованную ниже приведенной формулой. Возможно ли предоставление правовой охраны заявленному решению в качестве полезной модели с этой формулой? В случае отсутствия такой возможности укажите, какие рекомендации может дать заявителю патентный поверенный, и существует ли необходимость корректировки формулы.
Формула
Способ производства хлебобулочного изделия, предусматривающий приготовление светлого теста, содержащего пшеничную муку высшего сорта, дрожжи хлебопекарные прессованные, маргарин, сахар, соль, ванилин и воду и пшеничную муку высшего сорта, разделку и предварительную расстойку светлого теста, укладку заготовок, скручивание, окончательную расстойку и выпечку, при этом тесто готовят при следующем соотношении компонентов в %: (вес)
пшеничная мука высшего сорта 80
дрожжи хлебопекарные прессованные 3
маргарин 3
фосфолипиды 0,86
сахар 10-15
соль 1
ванилин 0,14
Практическая задача № 2
К патентному поверенному обратился заявитель по заявке на выдачу патента на изобретение, по которой он получил запрос экспертизы. В запросе указано на несоответствие изобретения по независимому п.1 формулы условию изобретательского уровня и приведены соответствующие источники информации. В ответ на запрос заявитель скорректировал п.1 формулы. Правомерна ли такая корректировка формулы? Приведите обоснование ответа.
ОТРАЖАЮЩЕЕ ПОКРЫТИЕ
Изобретение относится к области отражающих, в том числе теплозащитных покрытий, и может быть использовано для защиты человека в условиях его пребывания в обстановке высокого теплового воздействия, например, при тушении пожара или в условиях повышенной солнечной радиации.
Наиболее близким аналогом предлагаемого изобретения является отражающее покрытие, раскрытое в международной заявке WO 93/13239. Недостатками ближайшего аналога являются недостаточная механическая и химическая стойкость, а также невозможность использования этого покрытия на подложках из полимерных материалов из за требования высокой температуры (до 200oС) подложки для формирования защитной оксидной пленки.
