1. Выбрать в качестве материала подложки кремний толщиной 10000 А. Смоделировать процесс ионной имплантации в материал подложки выбранных ионов (Li,Co) с нулевым углом падения при различных энергиях ионов Ei (не менее 10 различных значений). Построить графики зависимости глубины Lmax от Ei. Lmax - глубина, на которую приходится максимум в распределении ионов в материале мишени. 2. Для трех различных энергий построить зависимость Lmax от угла падения θ ионов на мишень. 3. Повторить первое и второе задание, когда в качестве материала мишени выбран вольфрам толщиной 10000 А. Прикладываю пример, там уже литий сделан, осталось кобальд